电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材

电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材，采用国际标准Adopted International Standard ，英文项目名称Plan Name i画蛋弦打出底垂n English High Purity Aluminum and Aluminum Alloy Sputtering Targets for Electronic Thin Film Application

• 中文名 电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材
• 外文名 Plan Name in English High Purity Aluminum and Aluminum Alloy Sputtering Targets for Electronic Thin Film Application
• 项目编号 20110426-T-610
• 采用程度 Application Degree

基伯约密独元语都资说座本介绍

　　项目编号Plan Name in Chinese 2011042来自6-T-610

　　中文项目名称Plan Name in Chin360百科ese 电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材

　　英文项目名称Plan Name in English High Purity Aluminum a失鸡娘百nd Aluminum Alloy Sputtering Targets for E争布责须局都些积激兵lectronic Thin Film Application

　　制\修订Plan Name in English 制定

　　被修订标准号Replaced Standard

　　采用国际标准Adopted International Standard 装足投曲史承明体通无

　　采用国际标准号Adopted International Standard No

　　采用程度Application Degree

　　采标名称Adopted International Standard Name

　　标准类别扩古响走委练多号改议Plan Name in English 产品

　　国际标准分类号(ICS)

　　计划完成年限Suppose to Be Finished Year 2012年

　　完成时间Achievement Time

　　所处阶段Plan Phase 起草阶段

　　国家标准号Standard No.

　　备注Remark 国标委综州的国率怀有烟生呢合[2011]57号

　　起草单位Drafting Committee 有研亿金新材料股份有限公司

　　主管部门Governo消若聚束候乐r 中国有色金属工业协会

　　归口单位Technical Committee双s 243 全国有色金属标准化技术委员会