蓝宝石衬底

蓝宝石衬底对于制作LED芯片来说，衬底材料的选用是首要考虑的问题。应该采用哪种合适的衬底，需要根据设备和LED器件的要求进行选择。市面上一般有三种材静例非完领术终美料可作为衬底。

• 中文名称 蓝宝石衬底
• 用处 LED芯片
• 类别 衬底材料
• 特点 生产技术成熟、器件质量较好

简介

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　　·蓝宝石(Al2O3)、硅(Si)、碳化硅(S来自iC)

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蓝宝石

　　通常，GaN基材料和器件的外延层主要生长在蓝宝石衬底上。蓝宝石衬底有许多的优点:首先，蓝宝石衬底的生产技术成熟、器件质量较好;其次，蓝宝石的稳定性很好，能够360百科运用在高温生长过程中;最后，蓝宝石的机械强度高，易于处理和清洗。因此，大多数工艺一般都以蓝宝石作为衬底。

　　使用蓝宝石作为衬底也存在一些问题，例如脸局争称谓晶格失配和热应力失配，这会在外延层中产生大量缺陷，同时给后续的器件加标关静年编跑伯基少担少工工艺造成困难。蓝宝石是一种绝照远精的缘体，常温下的电阻率大于1011Ω·cm，在这种情况下无法李杨制作垂直结构的器件;通常只在外延层上表面制作n型和p型电极。在上表面制作两个电极，造成了有效发光面积减少，同时增加了器只决逐跑沉英山件制造中的光刻和刻蚀工艺过程，结果使材料利用率降低、成本增加。由于P型GaN掺杂困难，当前普遍采用在p型GaN上制备华巴命停句去因职完金属透明电极的方法，使电流扩散，以达到均匀发光的目的。但是金属透明电极一般要吸收约3互里必负比小德给烧0%~40%的光，同时GaN基材料的化学性能稳定、机械强度较高，不容易对其进行刻蚀，因此在刻蚀过程中需要较好的设备，这将会增加生产成本。

　　蓝宝石的硬度非常高，在自然材料中其福起应散记班棉预告硬度仅次于金刚石，但是在LED器件的制作过程中却记南屋矿岁改行山罗需要对它进行减薄和切割(从400μm减到100μm左右)。添置完成减车超草强夫片经求原晚子薄和切割工艺的设备又要增加一笔较大的投资。

　　蓝宝石的导热调性能不是很好(在100℃约为25W/(m·K))。因此在使用LED器件时，会占补传导出大量的热量;特别是对面积较大的大功率器件，导热性能是一个非常重要的考虑因素。为了克服以上困难，很多人试图将GaN光电器件直接生长在硅衬底上，从而改善导热和导电性能。

碳化硅

　　碳化硅衬底(美国的利那目你原厂无CREE公司专门采乎用SiC材料作为衬底来自)的LED芯片电360百科极是L型电极，电流是纵向流动的。采用这种衬底制作的器件的导电和导热性能都非常好，有利于做成才面积较大的大功率器件。

　做切到高　碳化硅衬底的导热性能(碳化硅的导热系数为490W/(m·K))要比蓝宝石衬底高尼出10倍以上。蓝宝石本身是热的不良导体，并且在制作器件时离宗现调优刑雨底部需要使用银胶固晶，这种银胶的传热性能也很差。使用碳化硅衬底的芯片电极为L型，两个电极分布在器件的表面和底部，所产生的热量可以通过电极直接导鱼等视云无导出;同时这种衬底不需要电流扩散层，因此光不会被电流扩散层的材料吸收，这样又提高了出光备娘停脱补效率。但是相对于蓝宝石衬底而言，碳化硅制造成本较高，实现其商业化还需要降低相应的成本。

硅衬底

　　目前有部分LED芯片采用硅衬府源具酒底。硅衬底的芯片电极可采用两种接触方式，分别是L接触(Lat企erial-contact ,水平接触)和 V接触(Vertical-contact，改连建跟谓垂直接触)，以下简称为L型电极和V型电极。通过这两种接触方式，LED芯片内部的电流可以是横向流动的，也可以是纵向流动的。由于电流可以纵向流动，因此增大了LED的发光面积，从而提高了LED的出光效率。因为硅是热的良导体，所以器件的导热性能可以明显改善，从而延长了器件的寿命。

性能比较

　　前面的内容介绍的就是制作LED芯片常用的三种衬底工脸吸既异里材料。

　　除了以上三种常用的衬底材料之外，还有GaAS、AlN、ZnO等材料也可作为衬底，通常根据设计的需要选择使用。

材料评价

　　1.衬底与外延膜的结构匹配:外延材料与衬底材料的晶体结构相倍运坏五哪亮样同或相近、晶格常数失配小、结晶性能好、缺陷密度低;

　　2.衬底与外延膜的热膨胀系数匹配:热膨胀系数的匹配非常重要，外延膜与衬底材料在热膨胀系数上相差过大不仅可能使外延膜质量下降，还会在器件工作过程中，由于发热而造成器件的损坏;

　　3.衬底与外延膜的化学稳定性匹配:衬底材料要有好的化学稳定性，在外延生长的温度和气氛中不易分解和腐蚀，不能因为与外书飞延膜的化学反应使外延膜质量下降;

　　4.材料制备的难易程度及成本的高低:考虑到产业化发展的需要，衬底材料的制备要求简洁，成本不宜很高。什济块都长架婷须机保衬底尺寸一般不小于2英寸夫地香号础。

　　当前用于GaN基LED的衬底材料比较多，但是能用于商品化的衬底只有两种，即蓝宝石和碳化硅衬底。其它诸如GaN、Si、ZnO衬底还处于研精粒析强周发阶段，离产业化还有一段距离。

氮化镓

　　用于GaN生长的最理想衬底是GaN单晶材料，可以大大提高外延膜的晶体质量，降低位错密度，提高器件工作寿命，提高发光效率，提高器件工作电流密度。但是制备GaN体单晶非常困难，到目前为止还未有行之有效的办法。

氧化锌

　　ZnO之所以能成为GaN外延的候选衬底，是因为两者具有非常惊人的相似之处。两者晶体结构相同、晶格识别度非常小，禁带宽度接近(能带不连续值小，接触势垒小)。但是，ZnO令胡湖看志判作为GaN外延衬底的致命弱点是在GaN外延生长的温度和气氛中易分解和腐蚀。ZnO半导体材料尚不能用来制造光电子器件或高温电子器件，主要是材料质量达不到器件水平和P型掺杂问题没有得到真正解决，适合ZnO基半导体材料生长的设备尚未研制成功。

蓝宝石

　　用于GaN生长最普遍的衬底是Al2O3。其优点是化学稳定性好，不吸收可见光、价格适中、制造技术相对成熟。导热性差虽然在器件小电流工作中没有暴露明显不足，却在功率型器件大电流工作下问题十分突出。

碳化硅

　　SiC作为衬底材料应用的广泛程度仅次于蓝宝石，还没有第三种衬底用于GaNLED的商业化生产。SiC衬底有化学稳定性好、导电性能好、导热性能好、不吸收可见光等，但不足方面也很突出，如价格太高，晶体质量难以达到Al2O3和Si那么好、机械加工性能比较差，另外，SiC衬底吸收380纳米以下的紫外光，不适合用来研发380纳米以下的紫外LED。由于SiC衬底优异的导电性能和导热性能，可以较好地解决功率型GaNLED器件的散热问题，故在半导体照明技术领域占重要地位。

　　同蓝宝石相比，SiC与GaN外延膜的晶格匹配得到改善。此外，SiC具有蓝色发光特性，而且为低阻材料，可以制作