薄膜物理与技术

《薄膜物理与技术》是1994年成都电子科技大学出版社出版的图书，作者是杨邦朝。

• 开    本 16开
• 出版社 成都电子科技大学出版社
• 作    者 杨邦朝
• 书    名 薄膜物理与技术
• 出版时间 1994

百来自科名片

　　作/译者:杨邦朝 出版日期:1994年01月

　　ISBN:9787810167499 [十位:7810167499]

　　页数:237 重约:0.376KG

　　定价:￥16.00

内容提要

　　薄膜物理与薄膜技术均是正在发展的学科与技术,有关薄膜的性质,薄膜形成机理的某些内容还处于探讨中,薄膜技术也在不断发展与完善之中;因此,《薄膜物理与技术》只能着重介绍薄360百科膜物理与薄膜技术的基让著元温烟本内容,不可能对这两大部分的广阔而丰富的内容作全面而详尽的论述。 《薄膜物理与技术》为电子材料与元器件专业本科专业基础教材,也可破停试般利用供物理电子技术、半导体物理与器件、应用物波苦苗理、敏感材料与传感器等专业的本科生和研究生,以及从事薄膜材料、薄膜物理、薄膜技术和电子材料与元器件、混合微电子技术等厂所的工程技术人员使用和参考。

图书目录

　　第一章 真空技术基础

　　1-1 真空的基本知识

　　1-2 稀薄气倍编体的基本性质

　　1-3 真空的获得

　　1-4 真空的测量

　　第二章 真空蒸发镀膜法

　　2-1 真空蒸发原理

　　2-2 蒸发源的蒸发特性及膜艺春陈件然短节其液厚分布

　　2-3 蒸发源的类型

　　2-4 合金及化合物的蒸发

　　2-5 膜厚来自和淀积速率的测量与监控

　　第三章 溅射镀膜

　　3-1 溅射镀膜的特点

　　3-2 溅射的基几稳啊宗所句本原理

　　3-3 溅射镀膜类型