集成电路版图基础:实用指南

《集成电路版图基础:实用指南》是在2006年10月清华大学出版社出版的图书，作者是(美)塞因特。

• 书名 集成电路版图基础:实用指南
• 作者 (美)塞因特
• 译者 李伟华，孙伟锋
• 出版社 清华大学出版社
• 出版时间 2006年10月1日

内容介绍

　　集成电路(IC)剂李友版图设计是一个非常新的领域，虽然掩模设计已经有30多年的历史，但直到最近才成为一种职业。人们希望从事这个职业，包括大学毕业生和一些希望转行宣待时范脱的人们，他们需要了解一些非常复杂的原理。同样地，一些富有经验的版图工程师也发现当代IC工艺的复杂性要求他们进一步了解这些基础知识。

　　版图设计不是一个孤立的设计环节，它与一系列的技术相关联。本书从基本半导体理论开始介绍，进而阐述了在现代半导体技术中基本器件的发展，为核屋业啊减世亲逐读者提供了IC版图设计的方法与技术。本书的一个突出特点是:在介绍版图设计的同时说明了为什么要这样设计头息航粮示后校阻两，使读者知其然，知其所以然。本书内容的重点是版图设计的基础知识，对于新入行的从业者，这是一个良好的开端;对于有经验的设计者，则可作为对设计经验的回味和思考。

图书目录

　　第1章 电路基础理论

　　1.1 内容提要

　　1.2 引言

　　1.3 基本电路回顾

　　1.3.1 同性相斥，异性相吸

　　1.3.2 基本单位

　　1.3.3 串联公式

　　1.3.4 并联公式

　七续没措事　1.3.5 欧姆定律

　　1.3.6 基尔霍夫定家律

　　1.3.7 电路单元符号

　　1.4 导体、绝缘体和半导体

　　1.5 半导体材料

　　1.5.1 N型材料

　　1.宗急少室动动选扩图5.2 P型材料

　　1.6 PN结

　　1.6.1 势垒

　　1.6.2 通过势垒的电流

　　1.6.3 二极管

　　1.6.4 二极管应用

　　1.7 半导体开来自关

　　1.7.1 一个灯开关的例子

　　1.8 场效应

文权主反期术乡队　　1.8.1 场效应晶体管

　360百科　1.9 开关隔离

　　1.10 增夜以用统味强型器件和耗尽型器件

　　给又少散节孙的以全丰食1.11 互补型开关

　　1.12 日互刑间检基N阱和衬底接触

　　1.13 逻辑电路

　　便牛1.13.1 用电压表示逻辑状态

　　1.13.2 CMOS逻辑电路

　　1.13.3 与非门

　　1.13.4 或非门

　　结束语

　　本章学过的内容

　　应用练习

　　第2章 硅加工工艺

　　2.1 内容提要

　　2.2 引言

　　2.践帮3 集成电路版图

　　2.3.1 基本矩形

　　2参事.4 硅晶圆制造

　　2.5 掺杂

　　2.5.1 离子注入

　　2.5.2 扩散

　　2.6 生长材料层

　　2.6.1 外延

饭厂略满水破广能　　2.6.2 化学气相沉积

　　2.6.3 氧化层生长

　　2.6.4 溅射

　　2.6.5 蒸发

　　2.7 去除材料层

　　2.8 光刻

　　2.9 芯片制造

　　2.9.1 下凹图形的加工

　　2.9.2 凸起图形的加工

　　2.9.3 平坦化

东川送面怕也并　　2.9.4 作为掩模的二氧化硅

　　2.10 自对准硅栅

　　结束语

　　本章学过的内容

　　第3章 CMOS版图

　　第4章 电阻

比大绍星办鲜济引角府　　第5章 电容

　　第6章 双极型晶体管

　　第7章 二引门发跳指复席春极管

　　第8章 电感

　　术语

　　推荐读物和资料

　　培训项目

作者简介

　　Christopher Saint现担任IBM West Coast Physical Design Group的经理，他曾经担任过Commquest G来自SM、AMPS和抗婷卷高顶只真办联宣CDMA芯片组的版图设计首席工是容待型解便财策程师，曾在Analog Devices，LSI Logic以及GEC/Pless台ey半导体版图设计公司任职多年。